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新品發(fā)布:支持?jǐn)?shù)據(jù)驅(qū)動開發(fā)的兩款FE-SEM隆重上市

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新品發(fā)布:支持?jǐn)?shù)據(jù)驅(qū)動開發(fā)的兩款FE-SEM隆重上市

發(fā)布日期:2021-12-13 作者:譜賽斯 點擊:

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強(qiáng)化自動獲取大量數(shù)據(jù)功能

實現(xiàn)高效率觀察


日立高新技術(shù)公司(以下簡稱日立高新技術(shù))此次推出兩款FE-SEM*1“SU8600”和“SU8700”(以下簡稱此系列產(chǎn)品),這兩種型號配置自動獲取大量數(shù)據(jù)的功能。


FE-SEM是用于觀察、測量和分析樣品細(xì)微結(jié)構(gòu)的場發(fā)射掃描電子顯微鏡,因此被廣泛用于半導(dǎo)體、生命科學(xué)和材料研發(fā)等領(lǐng)域。未來,數(shù)據(jù)驅(qū)動開發(fā)的進(jìn)步需要龐大的數(shù)據(jù)支撐,為此,日立高新技術(shù)特推出此系列產(chǎn)品,支持短時間內(nèi)獲取大量數(shù)據(jù),減輕用戶的負(fù)擔(dān)。


*1. FE-SEM:Field Emission Scanning Electron Microscope(場發(fā)射掃描電子顯微鏡)

SU8600 SU8700.jpg

場發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU8600(左)/SU8700(右)


圖片

· 產(chǎn)品開發(fā)背景 ·


FE-SEM獲得的圖像分辨率高,信息豐富,樣品處理相對簡單,并且它可以觀察、測量并分析樣品的細(xì)微結(jié)構(gòu),因此被廣泛應(yīng)用于納米技術(shù)、半導(dǎo)體、電子器件、生命科學(xué)、材料等領(lǐng)域。


近年來,以Materials Integration*2為代表,其應(yīng)用領(lǐng)域及用途在不斷擴(kuò)展,短時間內(nèi)獲取大量數(shù)據(jù),減輕作業(yè)負(fù)荷成為市場的一大需求。為滿足這一需求,此次特推出SU8600和SU8700,這兩種型號是在日立不斷改進(jìn)與沉淀的具有高分辨性能的FE-SEM基礎(chǔ)上,進(jìn)一步優(yōu)化了自動化功能,以快速獲取大量數(shù)據(jù)。


*2. Materials Integration:是一項綜合性材料研發(fā)技術(shù),以縮短材料研發(fā)周期為目的,整合運(yùn)用了理論/實驗/數(shù)據(jù)分析/模擬/數(shù)據(jù)庫。

圖片

· 產(chǎn)品特點 ·

在細(xì)微結(jié)構(gòu)分析中,SU8600可以實現(xiàn)低加速電壓觀察,對高分子等易受電子束照射影響的材料進(jìn)行高分辨觀察。SU8700可配置各種分析附件,適用于從低加速觀察到高束流的EBSD*3分析,支持陶瓷、金屬等不同材料的解析。


此系列產(chǎn)品主要具有以下三大特點:

1.支持自動獲取數(shù)據(jù)

在FE-SEM的觀察和分析中,需要根據(jù)測量樣品與需求調(diào)整觀察條件。調(diào)整所需時間的長短取決于用戶的操作熟練度,這是造成數(shù)據(jù)質(zhì)量與效率差異的因素之一。此系列產(chǎn)品標(biāo)配自動調(diào)整功能,可避免人為操作導(dǎo)致的差異。

此外,隨著儀器性能的提升,需要獲取的數(shù)據(jù)種類與數(shù)量也在增加,手動獲取各種大量數(shù)據(jù)會大大增加用戶的作業(yè)負(fù)擔(dān)。此系列產(chǎn)品可選配“EM Flow Creator”,用戶可根據(jù)自身需求設(shè)定條件,自動獲取數(shù)據(jù),這對于未來通過獲取大量數(shù)據(jù)實現(xiàn)數(shù)據(jù)驅(qū)動開發(fā)起到重要作用。

2.增加獲取信息的種類與數(shù)量

通過SEM能夠收集到多種信號,且此系列產(chǎn)品最多可以同時顯示和存儲6個檢測器的信號。在減少圖像獲取次數(shù)的同時能夠獲取多種信息。

此外,為一次性獲取大量信息,最大像素擴(kuò)展到了40,960 x 30,720*5,是當(dāng)前型號*4的64倍。利用這一功能,可憑借一張數(shù)據(jù)圖像有效評估多處局部的細(xì)微結(jié)構(gòu)

3.增強(qiáng)信號檢測能力

SU8600開發(fā)了多個新型選配檢測器,加強(qiáng)了對凹凸信息、發(fā)光信息的檢測能力。此外,還提高了背散射電子信號檢測的響應(yīng)速度。

SU8700的樣品倉設(shè)計巧妙,可使用短WD*6進(jìn)行EDS*7分析,通過提高EDS分析的空間分辨率,能夠?qū)崿F(xiàn)更微小部位的分析。

*3. EBSD:Electron Back Scatter Diffraction(電子背散射衍射)。一種用于晶體樣品取向分析的方法。
*4. 與Regulus系列FE-SEM對比

*5. 選配,可擴(kuò)展

*6. WD:Working Distance. (工作距離:SEM物鏡與樣品間的距離)

*7. EDS:Energy Dispersive X-ray Spectroscopy(能譜儀)



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