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鍍層測(cè)厚儀特性含量檢測(cè)

發(fā)布日期：2020-08-31 作者：admin 點(diǎn)擊：

　　鍍層測(cè)厚儀的特性：若產(chǎn)生X-射線熒光是由于轉(zhuǎn)移一個(gè)電子進(jìn)入K軌道，一個(gè)K軌道上的電子已事先被游離，另一個(gè)電子即代替他的地位，此稱之為K輻射。不同的能階轉(zhuǎn)換出不同的能量，如Kα輻射是電子由L軌道跳至K軌道的一種輻射，而Kβ輻射是電子從M軌道跳至K軌道的一種輻射，其間是有區(qū)別的。若X-射線熒光是一個(gè)電子跳入L的空軌域，此種輻射稱為L(zhǎng)輻射。同樣的L輻射可劃分為L(zhǎng)α輻射，此是由M軌道之電子跳入L軌道及Lβ輻射，此是由N軌道之電子跳入L軌道中。由于Kβ輻射能量約為Kα的11%，而Lβ輻射能量較Lα大約20%，所以以能量的觀點(diǎn)Lα及Lβ是很容易區(qū)分的。

　鍍層測(cè)厚儀應(yīng)用領(lǐng)域

　　黃金，鉑，銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè).

　　金屬鍍層的厚度測(cè)量,電鍍液和鍍層含量的測(cè)定。

　鍍層測(cè)厚儀主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè)；銀行，首飾銷售和檢測(cè)機(jī)構(gòu)；電鍍行業(yè)。

　鍍層測(cè)厚儀精度控制：

　　第一層：±5%以內(nèi)

　　第二層：±8%以內(nèi)

　　第三層：±12%以內(nèi)